Kristal oryantasyonu, CVD tohum kristallerinin temel bir kritik özelliğidir ve kristal içindeki atomik düzenlemenin yönüne atıfta bulunur. Elmas büyümesinin morfolojisini ve özelliklerini belirlemede belirleyici bir rol oynar. CVD tohum kristalleri, her biri farklı uygulamalar için uygun olan (100), (110) ve (111) kristal yönelimlerini sergiler : (100) ve (110) yönelimleri mücevher kalitesinde ham elmas yetiştirmek için kullanılırken, endüstriyel tek kristaller özel bir yönelim gerektirmez.
Yüksek kaliteli CVD tohum kristallerinin üretimi, çok sayıda hassas ve titiz üretim süreci gerektiren son derece yüksek giriş engellerini içerir. Temel iş akışı üç adıma ayrılabilir.
İlk adım, alt tabaka olarak yüksek saflığa ve minimum kusura sahip doğal elmaslara veya yüksek basınçlı yüksek sıcaklık (HPHT) sentetik elmaslara öncelik veren hammadde seçimidir. Bu, tohum kristalinin temel kalitesini sağlamak için temeldir. İkinci adım yönlü işlemeyi içerir. Lazer kesim ve taşlama gibi hassas teknikler aracılığıyla, alt tabaka önceden belirlenmiş boyutlarda işlenir; şu anda ana akım endüstriyel sınıf CVD tohumları 5-15 mm kare ölçülerindedir. Büyük boyutlu tohumların (20 mm+) üretilmesi, büyük elmas üretiminde önemli bir teknik zorluktur. Bu aşama ayrıca daha sonraki büyüme kusurlarını önlemek için kristal oryantasyonu üzerinde hassas kontrol gerektirir. Üçüncü adım hassas cilalama ve incelemeyi içerir. İşlenen tohum kristali, yüzey pürüzlülüğünün standartlara uygun olmasını sağlamak ve epitaksiyel büyümeye müdahaleyi önlemek için nano ölçekli cilalamaya tabi tutulur. Daha sonra, safsızlık tespiti ve kristal yönelim kalibrasyonu için özel denetim ekipmanı kullanılır. Ayrıca, 0,3 ile 0,6 mm arasında değişen geleneksel kalınlıklarda kalınlık kontrolü kritik öneme sahiptir. Bu, büyüme sırasında yapısal bütünlüğü sonraki işleme için yeterli payla dengelemelidir.